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EPO-TEK® 353ND-T jetzt nach ISO 10993 zertifiziert

Es freut uns, Ihnen mitzuteilen, dass ein weiteres EPO-TEK® Produkte nach ISO 10993 zertifiziert worden ist: Epo-Tek 353ND-T.

Epo-Tek 353ND-T ist eine formstabile (thixotrope) Version von Epo-Tek 353ND. Er wird u.a. oft eingesetzt für hochtemperaturbeständige Verklebungen.

Getestet wurden die folgenden ISO Klassen:

  • 10993-5
  • 10993-6
  • 10993-10
  • 10993-11

 Für ergänzende Auskünfte stehen wir Ihnen jederzeit gerne zur Verfügung. Wir freuen uns, von Ihnen zu hören.

Deutsch

Film Thickness Products

Silicon Dioxide Standards

  • Uniform layer of silicon dioxide on silicon wafers
  • Used with Ellipsometers, Reflectometers, Film Monitors

Silicon Nitride Standards

  • Layer of Silicon Nitride (LPCVD) on silicon wafers
  • Used with Ellipsometers, Reflectometers, Film Monitors
Nicht definiert

Dimensional Products

NanoCD Standards

  • 25, 45, 70 and 110 nm Line Width
  • Used with SEMs and CD-AFMs

Nanolattice Standard (NLS)

The NanoLattice Module Standard (NLSM) is a CD SEM calibration standard which enables accurate sub 0.13 μm lithography. The NanoLattice has the 0.1 μm pitch required for sub 0.13 μm SEM magnification calibration and characterization of non-linearity across the field of view.

Nicht definiert

Contamination Standards

Absolute Contamination Standards

  • Substrate Deposited Polystyrene Latex Spheres
  • For use with Scanning Surface Inspection Systems (SSIS)

Edge Contamination Standards

  • Edges of Substrate Deposited Polystyrene Latex Spheres
  • For use with Edge Contamination Detection Systems

Reticle Contamination Standards

  • Spheres deposited on photomasks / test plates
  • For use with reticle and pellicle inspection systems

Silica Contamination Standards

  • Substrate Deposited highly spherical Silica Spheres
Nicht definiert

Nachwort zur Tagesschulung "Klebstoffe & Kleben in Theorie & Praxis" am 23.10.2014

Am 23.10.2014 fand zum ersten Mal die Inhouse-Schulung  „Klebstoffe & Kleben in Theorie & Praxis“ statt. Die Teilnehmer erschienen zahlreich und bekamen einen Überblick in die Handhabung  von Klebstoffen, sowie auch eine praktische Einführung des fachgerechten Klebens. Zudem stellte das Unternehmen PINK die Thematik Oberflächenvorbehandlung und -aktivierung mittels Plasma vor.

Anwendungspezifische Probleme wurden besprochen und Lösungsvorschläge erarbeitet.

Deutsch

Improved Standard Video Resolution & Additional Magnification Option Now Available for ASAP-1 IPS Live Machine-Vision Output

ULTRA TEC, Santa Ana, USA

A Key Feature of our ASAP-1 IPS System has been the ALWAYS LIVE MACHINE VISION screen which enables the user to make REALTIME processing decisions. This feature is becoming more and more crucial with the move to ever thinner silicon, and the complexities of modern mechanical decapsulation.

Deutsch

Multiple Customers Select JVS for Inline GaN/Si Process Control

MIGDAL HAEMEK, Israel, July 7, 2014

Jordan Valley Semiconductors Ltd., a leading supplier of X-ray based metrology tools for advanced semiconductor manufacturing lines, today announced that it has recently delivered and successfully commissioned its JVX7300L in-line X-ray metrology tool at multiple customers. The systems have been purchased for in-fab process development and automated production monitoring of GaN on Si wafers.

Deutsch

Grundlagenschulung Klebstoffe und Klebetechnik

Die John P. Kummer GmbH wird wieder eine Grundlagenschulung Klebstoffe und Klebetechnik anbieten. Auf vielfachen Wunsch unser Kunden erstmalig als 1 ½ Tagesschulung vom 28.03. – 29.03.2017 mit intensiver praktischer Umsetzung der vermittelten Grundlagen. Die Teilnehmerzahl ist pro Termin auf maximal 20 Personen begrenzt. Weiterführende Informationen finden Sie in unserem Flyer.

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